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【求助】硅CVD反应器内流体分布模拟
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| 在多晶硅CVD反应器中，反应物料从反应器底部通入，在沉积载体兼发热体的硅棒表面反应沉积，底部通入的物料必须保持一定的流速，以将沉积载体表面的反应产物层及时破坏，以便反应继续进行，请问什么软件可以模拟反应器内的物料分布（流体状态、反应物/产物浓度分布等），如何才能根据该课题做博士论文，主要研究创新点在哪里，请各位虫虫支招，谢谢！ |
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2楼2011-01-23 08:08:13
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houlucky(金币+5): 谢谢 2011-02-15 17:42:11
xiegangmai(金币+1): 谢谢应助 2011-02-15 19:01:18
houlucky(金币+5): 谢谢 2011-06-13 10:01:19
houlucky(金币+5): 谢谢 2011-02-15 17:42:11
xiegangmai(金币+1): 谢谢应助 2011-02-15 19:01:18
houlucky(金币+5): 谢谢 2011-06-13 10:01:19
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4楼2011-02-15 15:59:32
5楼2011-12-23 01:44:06
6楼2012-01-11 11:23:06
7楼2012-01-12 16:16:04
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?磭Y壹笑3楼
2011-01-23 08:12
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xiegangmai(金币-1): 请勿在求助帖中发纯表 2011-01-23 10:36:06
