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【求助】硅CVD反应器内流体分布模拟
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houlucky
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【求助】硅CVD反应器内流体分布模拟
在多晶硅CVD反应器中,反应物料从反应器底部通入,在沉积载体兼发热体的硅棒表面反应沉积,底部通入的物料必须保持一定的流速,以将沉积载体表面的反应产物层及时破坏,以便反应继续进行,请问什么软件可以模拟反应器内的物料分布(流体状态、反应物/产物浓度分布等),如何才能根据该课题做博士论文,主要研究创新点在哪里,请各位虫虫支招,谢谢!
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2011-01-14 09:57:34
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houlucky
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各位虫虫,请给一点建议吧!!!
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2011-01-23 08:08:13
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houlucky(金币+5): 谢谢 2011-02-15 17:42:11
xiegangmai(金币+1): 谢谢应助 2011-02-15 19:01:18
houlucky(金币+5): 谢谢 2011-06-13 10:01:19
本帖内容被屏蔽
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2011-02-15 15:59:32
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):给个红包,谢谢回帖
Fluent 里有CVD吗?
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2011-12-23 01:44:06
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):给个红包,谢谢回帖
臭水沟(金币+1): 谢谢交流~~ 2012-01-11 14:40:42
houlucky(金币+2): 2012-01-12 16:16:18
建议先看多晶硅反应器模拟这方面的论文
研究创新点,我认为可以集中在对反应器和多晶硅产品的调控上
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6楼
2012-01-11 11:23:06
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houlucky
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楼
:
Originally posted by
huwanpeng2
at 2012-01-11 11:23:06:
建议先看多晶硅反应器模拟这方面的论文
研究创新点,我认为可以集中在对反应器和多晶硅产品的调控上
谢谢,能否有更为具体的建议呢?
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7楼
2012-01-12 16:16:04
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?磭Y壹笑
3楼
2011-01-23 08:12
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xiegangmai(金币-1): 请勿在求助帖中发纯表 2011-01-23 10:36:06
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