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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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connie3625

木虫 (正式写手)


[交流] 【请教】磁控溅射,多孔基体应该用直靶?斜靶?

想做磁控溅射,在基体上长点东西,刚问了问一个地方能做,但是他们的设备是斜靶的,说往多孔材料上沉积不太好。
我的基体有20-30纳米的小孔,想均匀沉积点Si,孔里也沉上,不知道虫子们了不了解用哪种工艺好一点。
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380677864

木虫 (正式写手)


降低溅射功率,增大偏压
7楼2010-12-08 14:16:22
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jinjie_led

金虫 (初入文坛)


connie3625(金币+1): 2010-12-02 22:10:52
孔太小,有可能会堵上。
2楼2010-12-02 17:02:50
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jinxiaoyun

木虫 (正式写手)


connie3625(金币+1): 2010-12-02 22:10:55
孔太小会堵上的,一般高径比超过3就会堵上了。。我也要往孔里沉积东西,真愁着呢。。。
3楼2010-12-02 20:28:53
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connie3625

木虫 (正式写手)


引用回帖:
Originally posted by jinxiaoyun at 2010-12-02 20:28:53:
孔太小会堵上的,一般高径比超过3就会堵上了。。我也要往孔里沉积东西,真愁着呢。。。

我的孔不深,高度跟宽度差不多,我还没试过,你用磁控溅射做过了吗?
4楼2010-12-02 22:11:41
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