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【求助】循环伏安的问题
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【求助】循环伏安的问题
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我在做Cu电极在0.5molHcl介质中的CV时,发现在电位由正往负扫时,有一个小尖峰,
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1楼
2010-11-15 22:03:27
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小毛球
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和A1是一样的吧,A2的氧化产物被还原后可能有新的干净表面产生
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天行健,君子以自强不息;地势坤,君子以厚德载物。
2楼
2010-11-16 08:59:51
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沙浪330
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看起来像是电化学催化产生的倒峰。
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小木虫(金币
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):给个红包,谢谢回帖交流
看起来像是电化学催化产生的倒峰。首先,确定其重复性。这包括更换电解液和电极进行重复性测试。然后再进行分析!
我也做过铜在不同溶液中的电化学CV扫描,没出现这种倒峰。
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任娟1227
3楼
2010-11-16 09:12:59
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Anthingispossible
4楼
2010-11-16 19:33:54
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任娟1227
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引用回帖:
3楼
:
Originally posted by
沙浪330
at 2010-11-16 09:12:59
看起来像是电化学催化产生的倒峰。首先,确定其重复性。这包括更换电解液和电极进行重复性测试。然后再进行分析!
我也做过铜在不同溶液中的电化学CV扫描,没出现这种倒峰。
你都做过铜在什么溶液中的循环伏安,0.1MOL的氢氧化钠行吗?扫描范围是多大。有没有相关的文献推荐一下,亲,求助攻
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5楼
2015-05-18 12:23:56
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