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rulily1984

木虫 (小有名气)

[交流] 【求助已完结】真空计的跳变问题

【求助已完结】磁控溅射时为什么真空计会突然跳跃

   在进行磁控溅射（氧化铝靶）时，沉积大概一小时后真空计突然由0.5Pa跳到12Pa左右，很不稳定，有谁能从理论上解释一下原因。非常感谢



可能是样品台打火的原因，谢谢大家

[ Last edited by rulily1984 on 2010-11-3 at 10:12 ]
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1楼 2010-10-30 13:56:15
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haode22

金虫 (正式写手)
rulily1984(金币+1): 2010-11-03 10:10:30
引用回帖:
Originally posted by rulily1984 at 2010-10-30 13:56:15:
【求助】磁控溅射时为什么真空计会突然跳跃

   在进行磁控溅射（氧化铝靶）时，沉积大概一小时后真空计突然由0.5Pa跳到12Pa左右，很不稳定，有谁能从理论上解释一下原因。非常感谢

是一直这样跳动？
1.0.5Pa是电阻规测量，电磁干扰的可能性不大
2.电磁屏蔽不好，干扰气体阀门
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逐渐成为工作狂，技术狂.............
2楼2010-10-30 21:01:24
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380677864

木虫 (正式写手)
rulily1984(金币+1): 2010-11-03 10:10:35
如果气流量进出不变的话，说明溅射室的压强应该是不变的，可能是楼上所说的电磁干扰。请问是每次实验都是这样吗？？你觉得溅射室是否发生了其它化学反应，有气体生成呢？
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3楼2010-10-30 22:12:48
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