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vaspstudy

银虫 (小有名气)

[交流] 【其他】缺陷形成能与电中性要求 已有5人参与

S. B. Zhang PRL67(1991)2339中对电中性的要求是

其中左边第一性为缺陷电荷密度,第二项为电子浓度,第三项为空穴浓度;右边为有效掺杂水平。
而在S. B. Zhang PRB 47(1993) 6791中,张老师对电中性的描述却是

求对此有研究的虫友们帮忙解释一下,谢谢啊
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vaspstudy

银虫 (小有名气)

接连问了两个问题都没人回答,郁闷中……
3楼2010-09-13 20:37:53
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查看全部 13 个回答

江山8806

金虫 (小有名气)

★
小木虫(金币+0.5):给个红包,谢谢回帖交流
搭车问路:
对于带电的缺陷,比如失去一个O原子的氧化物,它还是电中性的,核电荷数等于电子数。但是有不少文献讨论缺陷带电的情况,我一直没有搞明白其物理图像。

超胞核电荷数设为Z,总电子数设为NELECT.
令NELECT=Z+n。如n=1,表示缺陷带一个负电荷,超胞也是带一个负电荷的。
有文献讨论n的具体数字(1,2,3,...),来看不同荷电情况下超胞的稳定性,能量最低的认为是最稳定的,所对应的n就是平衡带电电子数。

那么,指定超胞荷电数是通过NELECT参数来实现的?NELECT只能给出总电荷数,而不能具体指定缺陷位置(如原子空穴)电荷数。如果通过NELECT引入的过量电子(超过Z)是局域的,那超胞收敛后做电子布局,就可以找到电子局域到那个原子上了?

[ Last edited by 江山8806 on 2010-9-13 at 16:52 ]
2楼2010-09-13 16:50:40
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valenhou001

至尊木虫 (职业作家)

★ ★ ★
小木虫(金币+0.5):给个红包,谢谢回帖交流
cenwanglai(金币+1):谢谢侯老师回帖。这篇文献是讲得很好。 2010-09-14 09:17:15
cenwanglai(金币+1): 2010-09-14 09:18:15
建议做点缺陷的计算时,仔细读读这篇文献:
J. Appl. Phys. 95, 3851 (2004); doi:10.1063/1.1682673 (29 pages)
First-principles calculations for defects and impurities: Applications to III-nitrides
Chris G. Van de Walle1 and Jörg Neugebauer2

http://jap.aip.org/resource/1/japiau/v95/i8/p3851_s1
这篇文献讲的很详细。
4楼2010-09-13 21:38:07
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valenhou001

至尊木虫 (职业作家)

★
小木虫(金币+0.5):给个红包,谢谢回帖交流
引用回帖:
Originally posted by vaspstudy at 2010-09-13 16:02:27:
S. B. Zhang PRL67(1991)2339中对电中性的要求是

其中左边第一性为缺陷电荷密度,第二项为电子浓度,第三项为空穴浓度;右边为有效掺杂水平。
而 ...

两个公式里面的N_{xx}所代表的意思不同。要先理解各个公式里面的N_{xx}的具体含义。有的是表示电子数或空穴数的个数(或浓度),有的是态密度值(比如N_v, N_c)。
5楼2010-09-13 21:43:51
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