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jiaojiayou

铁虫 (正式写手)

[交流] 【求助】溶剂分子变化是否导致PXRD峰位整体移动

做了个晶体,
(1)没有焙烧时,溶剂分子为DMF,测得其PXRD.
(2)焙烧后并暴露在空气中,估计吸水了,溶剂分子可能为H2O, 测得得PXRD与  (1)相比整体右移(向高角度移动);
(3)焙烧后保护起来,没有溶剂分子,测得的PXRD又比(2)整体右移;

排除机子的问题,这种溶剂分子的变化,是否会带来PXRD的变化?
我觉得(1)(2)(3)相比,晶格参数应该减小或者晶格膨胀减小,从而导致向高角度移动,这样解释对吗?
高手帮忙哦~~~~~
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xiaochong98

木虫 (职业作家)


jiaojiayou(金币+1): 2010-08-22 12:29:38
wsht212(金币+1):谢谢交流,希望常来! 2010-08-22 19:42:12
理论上这种可能性是有的,但实际上碰到的几率几乎为零,可能是你在制样过程中样品表面与载样台不一般平造成的偏移。
北京人
5楼2010-08-17 08:06:27
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jiaojiayou

铁虫 (正式写手)

大家还都在放假么?呜呜~~~~
3楼2010-08-15 13:58:47
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fmopily

铁杆木虫 (正式写手)

jiaojiayou(金币+1): 2010-08-22 12:29:35
wsht212:谢谢交流,希望常来! 2010-08-22 19:41:56
不是因为放假,只是因为你的问题不好回答。哈哈
4楼2010-08-15 16:38:35
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jiaojiayou

铁虫 (正式写手)

引用回帖:
Originally posted by xiaochong98 at 2010-08-17 08:06:27:
理论上这种可能性是有的,但实际上碰到的几率几乎为零,可能是你在制样过程中样品表面与载样台不一般平造成的偏移。

谢谢哦;可是对于第一个样品,我做了3遍都没有平移,但是这3个样品移还挺有规律的,呵呵,所以我就仔想知道是不是有什么实质性的原因。谢谢啊
6楼2010-08-22 12:31:07
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