| 查看: 427 | 回复: 1 | |||
386992525兑换贵宾
|
[交流]
【求助】在SiO2上做SAM，用甲氧基硅烷好还是3-氯硅烷？ 已有1人参与
|
|
如题！ 想改变基底性质，在SiO2上做一层疏水的SAM。有几个问题需想大家请教。 1： 要做到表面全是甲基整齐排列的SAM，C的个数应该在多少以上？ 2： 在硅烷与基底羟基反应时，3-甲氧基硅烷好还是3-氯硅烷好？ 3： 如果想做非常疏水的基底表面的话，需要用全氟的硅烷。全氟硅烷的表面接触角能做到多少度？ 大于110度能做到吗？ 谢谢！ [ Last edited by 386992525 on 2010-7-11 at 18:15 ] |
回复此楼» 猜你喜欢
求调剂：一志愿：南京大学 专业：0705 总分320 ，本科985，四六级已过
已经有3人回复
-
环境工程 085701，267求调剂
已经有14人回复
-
308求调剂
已经有12人回复
-
求调剂：085600材料与化工，考材科基，总分319
已经有21人回复
-
311求调剂
已经有8人回复
-
294分080500材料科学与工程求调剂
已经有13人回复
-
288求调剂 一志愿哈工大 材料与化工
已经有19人回复
-
288资源与环境专硕求调剂，不限专业，有学上就行
已经有23人回复
-
一志愿085600中科院宁波所276分求调剂
已经有17人回复
-
271求调剂
已经有11人回复
2楼2010-07-12 23:21:41
