| 查看: 426 | 回复: 1 | |||
386992525木虫 (正式写手)
|
[交流]
【求助】在SiO2上做SAM，用甲氧基硅烷好还是3-氯硅烷？ 已有1人参与
|
|
如题！ 想改变基底性质，在SiO2上做一层疏水的SAM。有几个问题需想大家请教。 1： 要做到表面全是甲基整齐排列的SAM，C的个数应该在多少以上？ 2： 在硅烷与基底羟基反应时，3-甲氧基硅烷好还是3-氯硅烷好？ 3： 如果想做非常疏水的基底表面的话，需要用全氟的硅烷。全氟硅烷的表面接触角能做到多少度？ 大于110度能做到吗？ 谢谢！ [ Last edited by 386992525 on 2010-7-11 at 18:15 ] |
回复此楼» 猜你喜欢
346求调剂 一志愿070303有机化学
已经有9人回复
-
085601 329分调剂
已经有5人回复
-
289求调剂
已经有4人回复
-
367求调剂
已经有6人回复
-
271求调剂
已经有4人回复
-
085600，321分求调剂
已经有3人回复
-
化学工程085602 305分求调剂
已经有35人回复
-
282求调剂 不挑专业 求收留
已经有5人回复
-
求调剂
已经有7人回复
-
334分 一志愿武理-080500 材料求调剂
已经有6人回复
386992525
木虫 (正式写手)
- 应助: 8 (幼儿园)
- 金币: 3999.7
- 散金: 694
- 红花: 23
- 帖子: 935
- 在线: 605.4小时
- 虫号: 723413
- 注册: 2009-03-15
- 专业: 光学
2楼2010-07-12 23:21:41
