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386992525木虫 (正式写手)
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[交流]
【求助】在SiO2上做SAM，用甲氧基硅烷好还是3-氯硅烷？ 已有1人参与
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如题！ 想改变基底性质，在SiO2上做一层疏水的SAM。有几个问题需想大家请教。 1： 要做到表面全是甲基整齐排列的SAM，C的个数应该在多少以上？ 2： 在硅烷与基底羟基反应时，3-甲氧基硅烷好还是3-氯硅烷好？ 3： 如果想做非常疏水的基底表面的话，需要用全氟的硅烷。全氟硅烷的表面接触角能做到多少度？ 大于110度能做到吗？ 谢谢！ [ Last edited by 386992525 on 2010-7-11 at 18:15 ] |
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2楼2010-07-12 23:21:41