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386992525

木虫 (正式写手)

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[交流] 【求助】在SiO2上做SAM，用甲氧基硅烷好还是3-氯硅烷？已有1人参与

如题！
想改变基底性质，在SiO2上做一层疏水的SAM。有几个问题需想大家请教。
1：要做到表面全是甲基整齐排列的SAM，C的个数应该在多少以上？
2：在硅烷与基底羟基反应时，3-甲氧基硅烷好还是3-氯硅烷好？
3：如果想做非常疏水的基底表面的话，需要用全氟的硅烷。全氟硅烷的表面接触角能做到多少度？大于110度能做到吗？

谢谢！

[ Last edited by 386992525 on 2010-7-11 at 18:15 ]

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