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糊涂的snow

铜虫 (小有名气)

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专业: 光学和光电子材料

[交流] 【讨论】大家都是通过什么方法制备微纳结构的？已有9人参与

例如：
加工方法：光学曝光
结构类型：条形阵列、透镜阵列
加工的尺寸范围：大于等于8um
应用：用做模板

真诚的跟大家探讨，不一定要做过，如果知道也可以哦，呵呵，我知道的加工方法太少，所以，想跟大家学习~~~

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没有做不到只有想不到

1楼 2010-04-13 10:28:47

已阅回复此楼关注TA 给TA发消息送TA红花 TA的回帖

young158

铜虫 (小有名气)

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专业: 结构陶瓷

★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖

引用回帖:

19883909楼: Originally posted by apolloljy at 2010-09-06 13:06:10
采用MEMS工艺，我做过紫外光刻，可以到1um甚至以下；刻蚀采用湿法刻蚀和干法RIE或者ICP刻蚀，后者各向异性较好，得到沟槽几百纳米到几微米尺寸可控；现在正准备做EBL，电子束光刻，可以做到100nm左右
此外还有纳米 ...

你好，我做300纳米的图形，已做好掩膜版，是不是应该采用深紫外曝光或者离子束曝光啊？这种设备哪个学校有啊，我是北京的。光刻胶是特有的型号吗？刻蚀采用RIE或者IBE?如果方便的话可以委托你们加工吗？
谢谢