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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 分析 » 【求助】XPS分析时采用的Ar离子刻蚀速度通常是多少呢
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曾是一条鱼3968

铜虫 (小有名气)

[交流] 【求助】XPS分析时采用的Ar离子刻蚀速度通常是多少呢 已有6人参与

我做了一次XPS分析，听老师的意见做了10min的Ar离子刻蚀，但忘记问老师刻蚀速度是多少了，不知道这十分钟刻蚀掉多厚，请问哪位大侠对这方面有了解，请帮帮我，谢谢啦
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1楼 2010-04-05 17:53:30
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elionix

★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
一般是1nm/min。
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7楼2010-06-04 15:57:14
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xianfen.wa

为什么呢？

★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
我也在做xps，
怎么没有这一步啊？

LZ可否解释一下刻蚀的原因啊？
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2楼2010-04-05 19:33:24
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xianfen.wa

再问一下

这种刻蚀会改变材料表面的特性么？

我做的是膜，如果刻蚀的厚度较大，
岂不是反而污染样品了？

希望和LZ探讨一下啊
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3楼2010-04-05 19:37:07
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曾是一条鱼3968

铜虫 (小有名气)
引用回帖:
Originally posted by 曾是一条鱼3968 at 2010-04-05 17:53:30:
我做了一次XPS分析，听老师的意见做了10min的Ar离子刻蚀，但忘记问老师刻蚀速度是多少了，不知道这十分钟刻蚀掉多厚，请问哪位大侠对这方面有了解，请帮帮我，谢谢啦

刻蚀的目的就是为了去除表面上的一些污染，如碳等
赞一下 回复此楼
4楼2010-04-05 19:44:15
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