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二七九二

新虫 (初入文坛)

[求助] 光刻胶膜层皱纹 已有1人参与

目的：在硅片上得到圆柱状光刻胶。参数：正性光刻胶AZ4620，每次1000rpm匀胶20um，用棉签沾丙酮去边胶，软烘：90℃15min，再下一次匀胶，重复10次，得到200um厚胶层，曝光机12mJ/平方厘米，曝光200s+400s（曝光200s冷却后再曝光400s），显影用1：4稀释的AZ400K，手动显影：用镊子夹住浸没在显影液并快速搅动，显影时间平均在30min，得到的胶层在显微镜下看到膜层有严重网状裂纹。

光刻胶膜层皱纹


光刻胶膜层皱纹-1


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1楼 2024-11-30 13:50:49
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zhaowenhuang

新虫 (小有名气)
引用回帖:
4楼: Originally posted by 二七九二 at 2024-12-02 16:41:19
肉眼看是这样，想请教一下光刻胶会不会被空气氧化之类的

...

灰色的是衬底，黑色的是圆柱形胶柱？肉眼可见说明需要的分辨率很低吧。如果需要做这个图形可以试试JSR151，负胶，两次涂胶110um，5min显影可到底，陡直profile，一般是做孔用的。不过这个胶挺贵的，不好买，有国产替代品。
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7楼2025-04-09 23:23:32
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NanoPi

银虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
胶的光化学反应性能不合适，胶膜过厚，或者收缩膨胀不均；
试试增加或减少烘焙时间；
或者增加曝光时间和dose；
或者减少显影时间；

希望对你有帮助
微纳器件可代工，私信~
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2楼2024-12-02 10:12:09
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二七九二

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by NanoPi at 2024-12-02 10:12:09
胶的光化学反应性能不合适，胶膜过厚，或者收缩膨胀不均；
试试增加或减少烘焙时间；
或者增加曝光时间和dose；
或者减少显影时间；

希望对你有帮助
微纳器件可代工，私信~

您好，就是曝光之后在显微镜下观察膜层没有这种裂纹，所以我猜测可能是显影出现的问题，所以我怀疑有几个点：1、显影手动搅动非常猛烈是否会导致裂纹   2、显影过程发现前期溶解速率较快，后期溶解慢：感觉都不是溶解，在显影液里发现没有溶解的小块状光刻胶（是否和没有进行重吸水有关）3、用的显影液AZ400K每次都用到变血红色才换掉，是否有影响

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3楼2024-12-02 15:17:21
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二七九二

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by NanoPi at 2024-12-02 10:12:09
胶的光化学反应性能不合适，胶膜过厚，或者收缩膨胀不均；
试试增加或减少烘焙时间；
或者增加曝光时间和dose；
或者减少显影时间；

希望对你有帮助
微纳器件可代工，私信~

肉眼看是这样，想请教一下光刻胶会不会被空气氧化之类的
光刻胶膜层皱纹-2



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4楼2024-12-02 16:41:19
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