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二七九二

新虫 (初入文坛)

[求助] 光刻胶膜层皱纹已有1人参与

目的:在硅片上得到圆柱状光刻胶。参数:正性光刻胶AZ4620,每次1000rpm匀胶20um,用棉签沾丙酮去边胶,软烘:90℃15min,再下一次匀胶,重复10次,得到200um厚胶层,曝光机12mJ/平方厘米,曝光200s+400s(曝光200s冷却后再曝光400s),显影用1:4稀释的AZ400K,手动显影:用镊子夹住浸没在显影液并快速搅动,显影时间平均在30min,得到的胶层在显微镜下看到膜层有严重网状裂纹。

光刻胶膜层皱纹


光刻胶膜层皱纹-1


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NanoPi

银虫 (著名写手)


【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
胶的光化学反应性能不合适,胶膜过厚,或者收缩膨胀不均;
试试增加或减少烘焙时间;
或者增加曝光时间和dose;
或者减少显影时间;

希望对你有帮助
微纳器件可代工,私信~
2楼2024-12-02 10:12:09
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二七九二

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by NanoPi at 2024-12-02 10:12:09
胶的光化学反应性能不合适,胶膜过厚,或者收缩膨胀不均;
试试增加或减少烘焙时间;
或者增加曝光时间和dose;
或者减少显影时间;

希望对你有帮助
微纳器件可代工,私信~

您好,就是曝光之后在显微镜下观察膜层没有这种裂纹,所以我猜测可能是显影出现的问题,所以我怀疑有几个点:1、显影手动搅动非常猛烈是否会导致裂纹   2、显影过程发现前期溶解速率较快,后期溶解慢:感觉都不是溶解,在显影液里发现没有溶解的小块状光刻胶(是否和没有进行重吸水有关)3、用的显影液AZ400K每次都用到变血红色才换掉,是否有影响

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3楼2024-12-02 15:17:21
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二七九二

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by NanoPi at 2024-12-02 10:12:09
胶的光化学反应性能不合适,胶膜过厚,或者收缩膨胀不均;
试试增加或减少烘焙时间;
或者增加曝光时间和dose;
或者减少显影时间;

希望对你有帮助
微纳器件可代工,私信~

肉眼看是这样,想请教一下光刻胶会不会被空气氧化之类的
光刻胶膜层皱纹-2



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4楼2024-12-02 16:41:19
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Hasty

铜虫 (小有名气)

你后一个400s曝光后冷却了吗?
5楼2024-12-11 09:40:58
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rfmems

金虫 (小有名气)

显影30分钟还是秒?
30分钟太离谱了
6楼2024-12-18 21:38:47
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zhaowenhuang

新虫 (小有名气)

引用回帖:
4楼: Originally posted by 二七九二 at 2024-12-02 16:41:19
肉眼看是这样,想请教一下光刻胶会不会被空气氧化之类的

...

灰色的是衬底,黑色的是圆柱形胶柱?肉眼可见说明需要的分辨率很低吧。如果需要做这个图形可以试试JSR151,负胶,两次涂胶110um,5min显影可到底,陡直profile,一般是做孔用的。不过这个胶挺贵的,不好买,有国产替代品。
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7楼2025-04-09 23:23:32
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