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光刻胶膜层皱纹 已有1人参与
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目的：在硅片上得到圆柱状光刻胶。参数：正性光刻胶AZ4620，每次1000rpm匀胶20um，用棉签沾丙酮去边胶，软烘：90℃15min，再下一次匀胶，重复10次，得到200um厚胶层，曝光机12mJ/平方厘米，曝光200s+400s（曝光200s冷却后再曝光400s），显影用1：4稀释的AZ400K，手动显影：用镊子夹住浸没在显影液并快速搅动，显影时间平均在30min，得到的胶层在显微镜下看到膜层有严重网状裂纹。  发自小木虫手机客户端 |
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4楼2024-12-02 16:41:19
2楼2024-12-02 10:12:09
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您好，就是曝光之后在显微镜下观察膜层没有这种裂纹，所以我猜测可能是显影出现的问题，所以我怀疑有几个点：1、显影手动搅动非常猛烈是否会导致裂纹 2、显影过程发现前期溶解速率较快，后期溶解慢：感觉都不是溶解，在显影液里发现没有溶解的小块状光刻胶（是否和没有进行重吸水有关）3、用的显影液AZ400K每次都用到变血红色才换掉，是否有影响 发自小木虫手机客户端 |
3楼2024-12-02 15:17:21
5楼2024-12-11 09:40:58