| 查看: 823 | 回复: 2 | |||
| 【悬赏金币】回答本帖问题,作者suhongda将赠送您 20 个金币 | |||
[求助]
新设备ALD-Al2O3沉积速率异常的高
|
|||
|
用的是TMA-H2O,温度80,每个cycle有2~3A,这过速率快常吗?我看的文献都是1A左右。冲洗时间,控压,低压,脉冲时间都试过了,这没有小过2A/cycle的,折射率也很低只有1.4。这要怎么解决啊? 发自小木虫IOS客户端 |
» 猜你喜欢
气敏文章投稿期刊求助
已经有3人回复
碲化铋热挤出裂纹
已经有2人回复
有机高分子材料论文润色/翻译怎么收费?
已经有80人回复
今年的上海市自然科学基金取消了吗?
已经有3人回复
《大尺寸单晶铜定向凝固技术》—— 王自东、吴春京(北科大团队专著)书籍求助
已经有0人回复
论文《提拉法生长铜单晶与铜单晶衬底制备研究》求助
已经有0人回复
咨询 27 热电材料方向申博
已经有2人回复
吉布斯自用能变、平衡常数、活度/分压计算
已经有7人回复
关于高温真空制备氧化亚硅(SiOx、SiO)的技术交流。
已经有0人回复
重磅分享|全链路AI材料研发闭环平台PULSE即将发布,重构新材料研发范式
已经有42人回复
2楼2023-09-22 20:12:48
3楼2023-10-05 10:02:24










回复此楼