| 查看: 715 | 回复: 2 | ||
| 【悬赏金币】回答本帖问题，作者suhongda将赠送您 20 个金币 | ||
[求助]
新设备ALD-Al2O3沉积速率异常的高
|
||
|
用的是TMA-H2O，温度80，每个cycle有2～3A，这过速率快常吗？我看的文献都是1A左右。冲洗时间，控压，低压，脉冲时间都试过了，这没有小过2A/cycle的，折射率也很低只有1.4。这要怎么解决啊？ 发自小木虫IOS客户端 |
回复此楼» 猜你喜欢
功能晶体材料知识库，共同交流进步
已经有22人回复
-
如何绘图
已经有2人回复
-
冶金与矿业论文润色/翻译怎么收费?
已经有106人回复
-
macromolecules投稿
已经有0人回复
-
天津理工大学功能晶体研究院（晶体材料全国重点实验室）招收2026年博士研究生
已经有2人回复
-
天津理工大学功能晶体研究院（晶体材料全国重点实验室）招收2026年博士研究生
已经有8人回复
-
天津理工大学功能晶体研究院（晶体材料全国重点实验室）招收2026年博士研究生
已经有0人回复
-
天津理工大学功能晶体研究院（晶体材料全国重点实验室）招收2026年博士研究生
已经有1人回复
-
成果系统访问量大，请15分钟后再尝试。由此给您造成的不便，敬请谅解。
已经有9人回复
2楼2023-09-22 20:12:48
3楼2023-10-05 10:02:24
30