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ws4231153新虫 (小有名气)
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想把NiCr薄膜做到1Ω怎么实现啊？ 已有1人参与
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| 目前需要磁控溅射的NiCr薄膜做到1Ω，想着加长溅射时间增加厚度来减小电阻，但发现时间太久了薄膜出现开裂的情况，电阻在5Ω左右，请问有什么方法可以解决薄膜厚度太厚导致的开裂情况呢？或者减小NiCr薄膜电阻率有什么方法呢？ |
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针对NiCr薄膜出现开裂情况，可以考虑以下方法： 1.降低溅射功率和溅射速率，逐步增加厚度，可以减少薄膜内部应力的积累，防止出现开裂情况。 2.增加基板温度，可以增加NiCr薄膜的晶粒尺寸，提高膜层的织构性，减少应力集中，有助于减轻膜层开裂。 3.针对膜层厚度较大的情况，可以进行退火处理，消除残留应力，使膜层结构更加完整，从而减少开裂现象的发生。 4.使用多层结构的NiCr薄膜，可以将薄膜分成多个较薄的层，避免出现单一层厚度过大而导致的开裂问题。 为了减小NiCr薄膜电阻率，可以考虑以下方法： 1.优化溅射工艺参数，如气氛、功率、时间等，以达到最佳的成膜效果。 2.添加合适数量的杂质元素，如铁、硅、钼等，这些元素的加入有助于提高NiCr薄膜的电导率和稳定性。 3.选择更高质量的NiCr材料，如制备高纯度的NiCr合金材料等。 4.通过改变基板形状、加强基板表面清洁度等方式，优化基板对于薄膜生长的影响。 发自小木虫IOS客户端 |
5楼2023-04-25 21:09:26
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