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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料综合 » 材料物理 » 想把NiCr薄膜做到1Ω怎么实现啊？
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ws4231153

新虫 (小有名气)

[求助] 想把NiCr薄膜做到1Ω怎么实现啊？ 已有1人参与

目前需要磁控溅射的NiCr薄膜做到1Ω，想着加长溅射时间增加厚度来减小电阻，但发现时间太久了薄膜出现开裂的情况，电阻在5Ω左右，请问有什么方法可以解决薄膜厚度太厚导致的开裂情况呢？或者减小NiCr薄膜电阻率有什么方法呢？
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1楼 2023-04-23 16:44:13
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13813921817

木虫之王 (文坛精英)

上善若水，利万物而不争

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
溅射功率的适合、晶粒小一些、材料纯度高一些。
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2楼2023-04-23 17:23:21
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ws4231153

新虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by 13813921817 at 2023-04-23 17:23:21
溅射功率的适合、晶粒小一些、材料纯度高一些。

功率越高越好吗？
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3楼2023-04-23 19:24:03
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13813921817

木虫之王 (文坛精英)

上善若水，利万物而不争
引用回帖:
3楼: Originally posted by ws4231153 at 2023-04-23 19:24:03
功率越高越好吗？...

适中
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4楼2023-04-24 10:05:09
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mat-cn02

新虫 (初入文坛)
针对NiCr薄膜出现开裂情况，可以考虑以下方法：

1.降低溅射功率和溅射速率，逐步增加厚度，可以减少薄膜内部应力的积累，防止出现开裂情况。

2.增加基板温度，可以增加NiCr薄膜的晶粒尺寸，提高膜层的织构性，减少应力集中，有助于减轻膜层开裂。

3.针对膜层厚度较大的情况，可以进行退火处理，消除残留应力，使膜层结构更加完整，从而减少开裂现象的发生。

4.使用多层结构的NiCr薄膜，可以将薄膜分成多个较薄的层，避免出现单一层厚度过大而导致的开裂问题。

为了减小NiCr薄膜电阻率，可以考虑以下方法：

1.优化溅射工艺参数，如气氛、功率、时间等，以达到最佳的成膜效果。

2.添加合适数量的杂质元素，如铁、硅、钼等，这些元素的加入有助于提高NiCr薄膜的电导率和稳定性。

3.选择更高质量的NiCr材料，如制备高纯度的NiCr合金材料等。

4.通过改变基板形状、加强基板表面清洁度等方式，优化基板对于薄膜生长的影响。

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5楼2023-04-25 21:09:26
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ws4231153

新虫 (小有名气)
引用回帖:
5楼: Originally posted by mat-cn02 at 2023-04-25 21:09:26
针对NiCr薄膜出现开裂情况，可以考虑以下方法：
1.降低溅射功率和溅射速率，逐步增加厚度，可以减少薄膜内部应力的积累，防止出现开裂情况。
2.增加基板温度，可以增加NiCr薄膜的晶粒尺寸，提高膜层的织构性，减少应 ...

十分感谢
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6楼2023-05-04 20:14:59
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