| 查看: 1683 | 回复: 13 | |||
| 【有奖交流】积极回复本帖子，参与交流，就有机会分得作者 秒速大大 的 39 个金币 ，回帖就立即获得 1 个金币，每人有 1 次机会 | |||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | |||
[交流]
PECVD生长二氧化硅气压不稳定
|
|||
求助各位虫友，在用PECVD生长二氧化硅薄膜发现腔体气压不稳定，一直在升高。腔体反应气体为SiH4和N2O，流量为10：100 SCCM，腔体气压在反应前稳定在100 Pa，但是打开电源开始反应后，气压就一直在上升，这个一般是什么问题导致的？ |
回复此楼» 猜你喜欢
求一个催化的学术会议群
已经有0人回复
-
羧甲基纤维素钠干胶体制备
已经有0人回复
-
无机非金属材料论文润色/翻译怎么收费?
已经有187人回复
-
材料模拟计算
已经有0人回复
-
文件夹闪关闭
已经有0人回复
-
多孔结构的镍基催化剂
已经有7人回复
-
纤维增强复合材料与金属构件的连接
已经有1人回复
-
博士自荐
已经有1人回复
-
国家纳米科学中心孙向南课题组招收2027级硕士1名
已经有7人回复
-
福建农林大学材料工程学院招收材料与化学方向博士
已经有0人回复
8楼2023-03-27 23:34:05
chenhuanlong
禁虫 (文学泰斗)
★
秒速大大(金币+1): 谢谢参与
秒速大大(金币+1): 谢谢参与
|
本帖内容被屏蔽 |
5楼2023-03-22 16:03:03
10楼2024-04-29 17:37:16
★
秒速大大(金币+1): 谢谢参与
秒速大大(金币+1): 谢谢参与
|
这种情况我遇见过类似的，射频电源的工作状态可能不稳定，影响等离子体的产生和维持，进而影响反应过程，可能导致气体消耗速率降低，从而增加腔体气压 发自小木虫Android客户端 |
13楼2024-06-14 11:08:05
简单回复
tzynew2楼
2023-03-22 14:19
回复
秒速大大(金币+1): 谢谢参与
o 发自小木虫Android客户端
toppaper4楼
2023-03-22 15:08
回复
2023-03-26 18:04
回复
秒速大大(金币+1): 谢谢参与
赞 发自小木虫IOS客户端
XG-WUST9楼
2023-03-28 20:56
回复
秒速大大(金币+1): 谢谢参与
up 发自小木虫IOS客户端
lds2029711楼
2024-05-05 07:26
回复
秒速大大(金币+1): 谢谢参与
！！ 发自小木虫IOS客户端
lds2029712楼
2024-06-01 07:39
回复
lds2029714楼
2024-09-29 07:59
回复