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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 电化学 » 腐蚀防护 » 求助，高熵合金涂层的电化学阻抗，在相位角图中的高频位置相位角变大，是什么原因？
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yxmzs001

新虫 (小有名气)

[求助] 求助，高熵合金涂层的电化学阻抗，在相位角图中的高频位置相位角变大，是什么原因？ 已有1人参与

在金属基体上熔覆制备了FeCoCrNi、FeCoCrNiMn、FeCoCrNiCu、FeCoCrNiTi四种高熵合金涂层。通过电化学测试了涂层的阻抗图谱。
有个问题：为什么在相位角图中，高频位置（10-5）的相位角会变的很大？
虚心求教，有思路就对我的帮助很大了，谢谢大家！

求助，高熵合金涂层的电化学阻抗，在相位角图中的高频位置相位角变大，是什么原因？
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1楼 2022-12-13 15:33:03
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yxmzs001

新虫 (小有名气)
引用回帖:
6楼: Originally posted by season7865 at 2022-12-13 18:31:20
那就正常。可以参考张鉴清《电化学测试技术》第六章6.1.4节涂层/金属体系的EIS模型及其演化，图6-55
...

意思是涂层中元素的改变，会使EIS的相位角变大，这属于正常情况么？
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7楼2022-12-13 20:07:52
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yxmzs001

新虫 (小有名气)
求前辈们指教，有思路的话就对我帮助很大了！
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2楼2022-12-13 15:49:09
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season7865

木虫 (著名写手)
是浸泡时间较短的阻抗谱吗？

发自小木虫Android客户端
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myeyesareopen
3楼2022-12-13 16:31:55
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yxmzs001

新虫 (小有名气)
引用回帖:
3楼: Originally posted by season7865 at 2022-12-13 16:31:55
是浸泡时间较短的阻抗谱吗？

浸泡时间大体上一样，不同样品的浸泡时间上不会差太多
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4楼2022-12-13 17:34:15
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