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yxmzs001

新虫 (小有名气)

[求助] 求助,高熵合金涂层的电化学阻抗,在相位角图中的高频位置相位角变大,是什么原因?已有1人参与

在金属基体上熔覆制备了FeCoCrNi、FeCoCrNiMn、FeCoCrNiCu、FeCoCrNiTi四种高熵合金涂层。通过电化学测试了涂层的阻抗图谱。
有个问题:为什么在相位角图中,高频位置(10-5)的相位角会变的很大?
虚心求教,有思路就对我的帮助很大了,谢谢大家!

求助,高熵合金涂层的电化学阻抗,在相位角图中的高频位置相位角变大,是什么原因?
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season7865

木虫 (著名写手)

是浸泡时间较短的阻抗谱吗?

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myeyesareopen
3楼2022-12-13 16:31:55
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season7865

木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

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感谢参与,应助指数 +1
yxmzs001: 金币+50, ★★★★★最佳答案 2022-12-15 12:55:12
引用回帖:
5楼: Originally posted by yxmzs001 at 2022-12-13 17:36:52
样品放入3.5%NaCl溶液中,先测了30min左右的开路电位,后面阻抗基本都是在2、3小时内测完的...

那就正常。可以参考张鉴清《电化学测试技术》第六章6.1.4节涂层/金属体系的EIS模型及其演化,图6-55

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myeyesareopen
6楼2022-12-13 18:31:20
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season7865

木虫 (著名写手)

引用回帖:
7楼: Originally posted by yxmzs001 at 2022-12-13 20:07:52
意思是涂层中元素的改变,会使EIS的相位角变大,这属于正常情况么?...

不要乱猜,先看书,和元素关系不大。

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myeyesareopen
9楼2022-12-13 20:54:10
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season7865

木虫 (著名写手)

引用回帖:
10楼: Originally posted by yxmzs001 at 2022-12-13 21:23:36
嗯,书中小节内容看完了。我的样品测试符合浸泡中期的EIS模型,且拟合电路也相同。但是,书中的内容针对的是金属基体上的有机涂层,而我的样品是金属基体上的金属涂层,金属涂层是致密的合金。
书中对于相位角大的 ...

差不多就是这个意思。高频高相位角是体系内大电阻小电容引起的。除了部分贵金属,金属在环境中都要考虑表面氧化膜的影响,氧化物膜导电性差,所以电阻较大。
另外一个问题是小电容,这个可以继续看6.1.5节

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myeyesareopen
11楼2022-12-13 21:55:05
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season7865

木虫 (著名写手)

引用回帖:
12楼: Originally posted by yxmzs001 at 2022-12-13 22:57:02
6.1.5节看完了,对于您说的小电容问题,此小节没看到有具体的相关介绍,或者是我没有理解此节对有机涂层(或氧化膜)引起的小电容问题的解释。
还希望前辈能帮忙指点一下...

公式6—188和6—189

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myeyesareopen
13楼2022-12-13 23:38:08
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season7865

木虫 (著名写手)

引用回帖:
14楼: Originally posted by yxmzs001 at 2022-12-14 00:02:38
嗯,明白了,金属涂层表面氧化膜的电容较小,是因为氧化膜的介电常数较小,所以其电容小。
那么,是否可以根据公式,推断出4种涂层的高频相位角大小的不同,原因是不同成分金属涂层氧化膜的介电常数有一定差异,以 ...

理论上讲是可以,但是实际情况太过复杂。
第一、复合金属涂层氧化膜的成分很复杂;
第二、氧化膜有空隙,会有部分电解液渗进来,
这两点导致我们很难界定其介电常数。
第三、钝化膜的结构很复杂,是多层结构,而且起保护作用的内层膜厚度很薄,一般才几十纳米,这一点让我们很难分析厚度的影响。
确实有一些论文用阻抗谱参数分析膜厚度,但是否准确见仁见智。

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myeyesareopen
16楼2022-12-15 20:03:40
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