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求助,高熵合金涂层的电化学阻抗,在相位角图中的高频位置相位角变大,是什么原因?
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yxmzs001
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[
求助
]
求助,高熵合金涂层的电化学阻抗,在相位角图中的高频位置相位角变大,是什么原因?
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在金属基体上熔覆制备了FeCoCrNi、FeCoCrNiMn、FeCoCrNiCu、FeCoCrNiTi四种高熵合金涂层。通过电化学测试了涂层的阻抗图谱。
有个问题:为什么在相位角图中,高频位置(10-5)的相位角会变的很大?
虚心求教,有思路就对我的帮助很大了,谢谢大家!
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1楼
2022-12-13 15:33:03
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9楼
:
Originally posted by
season7865
at 2022-12-13 20:54:10
不要乱猜,先看书,和元素关系不大。
...
嗯,书中小节内容看完了。我的样品测试符合浸泡中期的EIS模型,且拟合电路也相同。但是,书中的内容针对的是金属基体上的有机涂层,而我的样品是金属基体上的金属涂层,金属涂层是致密的合金。
书中对于相位角大的原因解释为:有机涂层相当于一个电阻很大、电容很小的隔绝层。这种解释感觉不适用于我的金属涂层,毕竟金属涂层没有绝缘效果。
是否可以从另一个角度考虑,金属表面存在的钝化膜(即氧化膜)的作用,相当于有机涂层?
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10楼
2022-12-13 21:23:36
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专业: 金属材料的凝固与结晶学
求前辈们指教,有思路的话就对我帮助很大了!
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2楼
2022-12-13 15:49:09
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是浸泡时间较短的阻抗谱吗?
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myeyesareopen
3楼
2022-12-13 16:31:55
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3楼
:
Originally posted by
season7865
at 2022-12-13 16:31:55
是浸泡时间较短的阻抗谱吗?
浸泡时间大体上一样,不同样品的浸泡时间上不会差太多
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4楼
2022-12-13 17:34:15
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