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阿勇

铜虫 (小有名气)

[交流] 【求助】缺陷形成能

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在计算缺陷带电情况下的形成能,如果一缺陷带电,在计算时,会有一个均匀电荷背景来保持胞的中性,那我计算这个胞的总能包不包括这个均匀电荷背景的能量
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lfhuang

木虫 (著名写手)


阿勇(金币+1,VIP+0):谢谢 9-15 08:53
引用回帖:
Originally posted by yzcluster at 2009-9-14 18:36:
中性或是带电缺陷能的计算都有一定的公式,我不知道LZ所谓的均匀电荷背景是怎么搞上去的。

就我所知,均匀正电荷背景是在电子气模型(或是凝胶模型)中用来抵消电子自作用能时使用的。这是在能带不重要的时候处 ...

虽然这里的均匀电荷背景也是使用Jellium model,但是这里只是一种数学处理,防止计算带电体系时的库仑发散(对fourier transformation的零阶项进行改动),本身并不引入任何物理影响.和原来jellium model的方法上对应,物理上并不对应. 虽然此方法目前广泛地用于计算带电体系(半导体或绝缘体)的各种性质,虽然也得到了很多非常可靠的结果,但其严格的物理对应还是有待商榷.
先进使役材料计算(https://aidme.nimte.ac.cn)
4楼2009-09-14 20:36:48
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查看全部 11 个回答

lfhuang

木虫 (著名写手)

★ ★
yjr(金币+1,VIP+0):谢谢!! 9-14 19:55
阿勇(金币+1,VIP+0): 9-15 08:54
不包括. 此均匀电荷背景应该是一种数学处理, 防止带电情况下的库仑发散.
先进使役材料计算(https://aidme.nimte.ac.cn)
2楼2009-09-14 18:02:20
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yzcluster

金虫 (著名写手)

小木虫扫盲人

★ ★ ★ ★
spur(金币+3,VIP+0):谢谢参与!欢迎常来一起讨论!! 9-14 19:20
阿勇(金币+1,VIP+0): 9-15 08:56
中性或是带电缺陷能的计算都有一定的公式,我不知道LZ所谓的均匀电荷背景是怎么搞上去的。

就我所知,均匀正电荷背景是在电子气模型(或是凝胶模型)中用来抵消电子自作用能时使用的。这是在能带不重要的时候处理宽带金属的一种最简单的模型。当然,从量子多体的角度我们可以引入等离激元、电子空穴对等准粒子的物理图像。

在DFT的计算中,离子一般不能抹平了作为正电荷背景使用(我记得最早仅在用LDA的时候计算过这种体系),而能带效应是重要的。所以LZ可以把你的情况在说一下,主要说明你的均匀电荷背景是怎么来的。个人意见。
3楼2009-09-14 18:36:00
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yzcluster

金虫 (著名写手)

小木虫扫盲人

★ ★ ★
yjr(金币+3,VIP+0):谢谢!! 9-15 12:01
引用回帖:
Originally posted by lfhuang at 2009-9-14 20:36:

虽然这里的均匀电荷背景也是使用Jellium model,但是这里只是一种数学处理,防止计算带电体系时的库仑发散(对fourier transformation的零阶项进行改动),本身并不引入任何物理影响.和原来jellium model的方法上对应 ...

可能LS没有明白我的意思。我是指在DFT计算的时候,这个正电背景如何加上。既然是求解带电缺陷的形成能。为什么还要加上正电背景以保持胞的中性?究竟计算的是带电的晶胞还是中性晶胞?我觉的这是一个矛盾。

比如说,我计算一个BaTiO3的点缺陷,如果超胞选4*4,在扣掉一个Ba原子后,形成一个Ba原子的空位,自然可以在此基础之上优化,算能带结构等等。退一步,如果体系带电,通过调节带上一个电荷就行了,继续的计算跟不带电的是类似的,比如求解KS方程等等。那么,这个正电荷“背景”是怎么体现的?

最后,在凝胶模型中,正电荷是当作背景存在的。如果考虑正离子的分立晶格分布,又考虑正电荷背景,岂不意味者正电荷考虑了两次。

总之,我觉得LZ的表示有些混乱,他似乎混淆了DFT理论跟凝胶模型的区别。当然,也可能是我没有想到什么东西。如果LS知道我错在哪里,请指出来。

[ Last edited by yzcluster on 2009-9-14 at 20:53 ]
5楼2009-09-14 20:51:32
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