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zxy3235566

新虫 (初入文坛)

[求助] 关于磁控溅射沉积薄膜中功率变化对薄膜成分的影响,求教各位大佬! 已有2人参与

用的是RF磁控溅射设备,靶材是高熵合金(TiVCrNbSiTaBY),随着我增加功率,薄膜中比较轻的一个元素(Si)含量上升了,做的是氮化物薄膜,请各位大佬指点一下该怎么解释呀?
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zxy3235566

新虫 (初入文坛)

有做磁控的大佬解答一下嘛,困惑好久了~~~
2楼2022-03-08 19:16:12
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kangye_1989

木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
均匀性如何,是不是出现偏析了
3楼2022-03-10 12:57:47
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zxy3235566

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
3楼: Originally posted by kangye_1989 at 2022-03-10 12:57:47
均匀性如何,是不是出现偏析了

是均匀的,就是想知道有没有文献提过功率变高会更容易沉积轻元素的,麻烦大佬指点一下。
4楼2022-03-10 18:44:44
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zxy3235566

新虫 (初入文坛)

顶一下~~等个大佬~~
5楼2022-03-14 13:08:30
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bluegenes

银虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

磁控溅射本质上类似于打台球,用Ar离子作白球,靶材做其他球,靶材中的轻质元素相对容易轰击出来
www.qiushan-tech.com
6楼2022-03-29 23:27:11
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zxy3235566

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
6楼: Originally posted by bluegenes at 2022-03-29 23:27:11
磁控溅射本质上类似于打台球,用Ar离子作白球,靶材做其他球,靶材中的轻质元素相对容易轰击出来

感谢您的回答,我看过类似的文章,我的理解是在其他不变的情况下,靶材中轻质元素更易被溅射,如靶材是TI50%Si50%,那么得到的涂层可能是Ti55%Si55%,但我现在增加了功率,为什么Si含量会随着功率的增加而增加呢~希望能再解答一下
7楼2022-04-12 22:09:33
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匿名

本帖仅楼主可见
8楼2022-04-29 21:05:23
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匿名

本帖仅楼主可见
9楼2022-04-29 21:06:41
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zxy3235566

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
9楼: Originally posted by 明月芯 at 2022-04-29 21:06:41
你上面说的应该是Ti45%,Si55%吧?
...

对对对,打错了,就是普通的能谱,电子探针的能谱也用过
10楼2022-05-04 17:51:14
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