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zxy3235566新虫 (初入文坛)
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关于磁控溅射沉积薄膜中功率变化对薄膜成分的影响,求教各位大佬! 已有2人参与
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| 用的是RF磁控溅射设备,靶材是高熵合金(TiVCrNbSiTaBY),随着我增加功率,薄膜中比较轻的一个元素(Si)含量上升了,做的是氮化物薄膜,请各位大佬指点一下该怎么解释呀? |
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