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zxy3235566新虫 (初入文坛)
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[求助]
关于磁控溅射沉积薄膜中功率变化对薄膜成分的影响，求教各位大佬！ 已有2人参与
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| 用的是RF磁控溅射设备，靶材是高熵合金（TiVCrNbSiTaBY），随着我增加功率，薄膜中比较轻的一个元素（Si）含量上升了，做的是氮化物薄膜，请各位大佬指点一下该怎么解释呀？ |
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