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磁控溅射沉积氧化铜薄膜发生皲裂
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请问各位大佬，最近磁控溅射金属铜靶，沉积氧化铜薄膜在氧化硅上，马弗炉退火后会发生皲裂，脱落现象，很随机，同样的参数做两批片子有不同的结果，降低退火温度并无明显改善，之前做了两个月没有发现这种现象，请问有大佬知道怎么回事吗？  发自小木虫Android客户端 |
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3楼2021-10-19 10:39:41
 本帖仅楼主可见 |
2楼2021-10-19 00:03:44
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