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磁控溅射沉积氧化铜薄膜发生皲裂
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请问各位大佬,最近磁控溅射金属铜靶,沉积氧化铜薄膜在氧化硅上,马弗炉退火后会发生皲裂,脱落现象,很随机,同样的参数做两批片子有不同的结果,降低退火温度并无明显改善,之前做了两个月没有发现这种现象,请问有大佬知道怎么回事吗? 发自小木虫Android客户端 |
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