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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 光刻前硅片清洗
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匿名

用户注销 (初入文坛)
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1楼 2020-12-04 11:48:03
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V汇志达助剂

禁虫 (小有名气)
本帖内容被屏蔽
2楼2020-12-04 15:07:43
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perry_ping

新虫 (职业作家)
有些光刻胶不需要涂底胶，也看你做什么

发自小木虫IOS客户端
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3楼2020-12-05 07:43:55
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2073266459

铁虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

内容已删除
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4楼2020-12-09 16:24:06
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jttr9319

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
草青黄尘飞: 金币+5, ★★★很有帮助 2020-12-21 12:43:08
就算你是做器件，一般硫酸双氧水3:1煮沸就可足够满足使用需求 了。我们以前直接新的硅片放等离子清洗适当功率1分钟左右，直接涂胶就可以，很牢固的
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5楼2020-12-09 20:29:22
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thegarfield

铁杆木虫 (著名写手)
涂胶前保证有机清洗即可，另外需要热处理脱水，HMDS是默认操作，增加粘附力，没什么讲究
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6楼2021-01-09 21:02:46
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mycro

铜虫 (小有名气)
具体看你做什么应用吧。硅片涂胶前还可以用等离子气清洗，紫外臭氧清洗设备等进行清洗。
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迈可诺公司全称“迈可诺技术有限公司”，英文简称“MYCRO”。这是一家富有创新精神的国际化高科技公司，专业提供光电半导体化工实验室所需设备耗材的全套解决方
7楼2021-01-27 16:41:30
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2073266459

铁虫 (初入文坛)
内容已删除
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8楼2021-03-03 11:38:08
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xrq0525

金虫 (正式写手)
引用回帖:
6楼: Originally posted by thegarfield at 2021-01-09 21:02:46
涂胶前保证有机清洗即可，另外需要热处理脱水，HMDS是默认操作，增加粘附力，没什么讲究

您好，请问涂底胶是在常温下涂吗，用匀胶机吗？
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9楼2021-07-09 14:54:45
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xrq0525

金虫 (正式写手)
引用回帖:
6楼: Originally posted by thegarfield at 2021-01-09 21:02:46
涂胶前保证有机清洗即可，另外需要热处理脱水，HMDS是默认操作，增加粘附力，没什么讲究

不好意思，我又查了下资料，是用蒸汽涂胶吧，那需要什么专门的设备吗？
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10楼2021-07-09 14:59:04
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