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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 光刻前硅片清洗
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匿名

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1楼 2020-12-04 11:48:03
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xrq0525

金虫 (正式写手)
引用回帖:
6楼: Originally posted by thegarfield at 2021-01-09 21:02:46
涂胶前保证有机清洗即可，另外需要热处理脱水，HMDS是默认操作，增加粘附力，没什么讲究

您好，请问涂底胶是在常温下涂吗，用匀胶机吗？
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9楼2021-07-09 14:54:45
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V汇志达助剂

禁虫 (小有名气)
本帖内容被屏蔽
2楼2020-12-04 15:07:43
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perry_ping

新虫 (职业作家)
有些光刻胶不需要涂底胶，也看你做什么

发自小木虫IOS客户端
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3楼2020-12-05 07:43:55
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jttr9319

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
草青黄尘飞: 金币+5, ★★★很有帮助 2020-12-21 12:43:08
就算你是做器件，一般硫酸双氧水3:1煮沸就可足够满足使用需求 了。我们以前直接新的硅片放等离子清洗适当功率1分钟左右，直接涂胶就可以，很牢固的
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5楼2020-12-09 20:29:22
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