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1楼
2020-12-04 11:48:03
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V汇志达助剂
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2020-12-04 15:07:43
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perry_ping
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专业: 无机合成和制备化学
有些光刻胶不需要涂底胶,也看你做什么
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3楼
2020-12-05 07:43:55
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2020-12-09 16:24:06
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jttr9319
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草青黄尘飞: 金币+5,
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很有帮助
2020-12-21 12:43:08
就算你是做器件,一般硫酸双氧水3:1煮沸就可足够满足使用需求 了。我们以前直接新的硅片放等离子清洗适当功率1分钟左右,直接涂胶就可以,很牢固的
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2020-12-09 20:29:22
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thegarfield
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涂胶前保证有机清洗即可,另外需要热处理脱水,HMDS是默认操作,增加粘附力,没什么讲究
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6楼
2021-01-09 21:02:46
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专业: 化学生物学与生物有机化学
具体看你做什么应用吧。硅片涂胶前还可以用等离子气清洗,紫外臭氧清洗设备等进行清洗。
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迈可诺公司全称“迈可诺技术有限公司”,英文简称“MYCRO”。这是一家富有创新精神的国际化高科技公司,专业提供光电半导体化工实验室所需设备耗材的全套解决方
7楼
2021-01-27 16:41:30
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8楼
2021-03-03 11:38:08
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xrq0525
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thegarfield
at 2021-01-09 21:02:46
涂胶前保证有机清洗即可,另外需要热处理脱水,HMDS是默认操作,增加粘附力,没什么讲究
您好,请问涂底胶是在常温下涂吗,用匀胶机吗?
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9楼
2021-07-09 14:54:45
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xrq0525
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专业: 固体力学
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6楼
:
Originally posted by
thegarfield
at 2021-01-09 21:02:46
涂胶前保证有机清洗即可,另外需要热处理脱水,HMDS是默认操作,增加粘附力,没什么讲究
不好意思,我又查了下资料,是用蒸汽涂胶吧,那需要什么专门的设备吗?
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10楼
2021-07-09 14:59:04
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