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[交流]
【求助】关于晶体硅扩散死层
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请教大家一下,晶体硅太阳能电池中扩散死层是怎么形成的,怎样去判断形成的P-N结是不是好的,是不是有死层? 还有就是说通过扩散前氧化可以减少死层的形成,这是什么原理 |
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ddx-k(金币+3,VIP+0):谢谢你的总结。 7-24 18:30
han0406105(金币+3,VIP+0):谢谢 7-24 19:16
ddx-k(金币+3,VIP+0):谢谢你的总结。 7-24 18:30
han0406105(金币+3,VIP+0):谢谢 7-24 19:16
| 大家的交流使我对“死层”有了更深刻的理解,死层产生的原因,userhung版主已经解释很清楚了,对于n+/p常规硅太阳能电池的发射区一般是通过P扩散形成的浅结区域,由于在扩散区P处于晶格间隙位置,容易引起晶格畸变,而且由于P与Si的原子半径不匹配,也容易出现失配,因此该区域活性比较大,容易吸引杂质,会成为少数载流子的复合中心,从而降低少子寿命,一般把发射结深做的浅一点0.1um可以避免这种现象,但是这样会增大串联电阻。死层的存在是无法避免的,只能通过一定的工艺减少死层的产生,透氧化层P扩散是方法之一(先形成氧化层,再进行P扩散),原因ddx-k版主已经解释清楚了。 |
6楼2009-07-24 17:07:32
userhung
禁虫 (文学泰斗)
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2楼2009-07-22 21:10:52
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