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东东那个东

金虫 (正式写手)

[交流] 溅射陶瓷薄膜,陶瓷靶材致密度是不是越高好?

我用了99.99的氧化铝靶材溅射薄膜,靶材密度估算是3.6;可惜没有溅射下来。
寻找原因:
1、背板与靶材的有沾牢固。
2、功率最大用到200W。
3、百分之十的氧氩混合气。
4、基台500摄氏度。
5、靶材开裂,靶材厚度1.5mm

突发想法,靶材致密度越高,会不会影响溅射?

请大家提提意见,
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头疼
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东东那个东

金虫 (正式写手)

引用回帖:
2楼: Originally posted by lvhong at 2020-09-23 07:29:08
一般是绑定结合不好导致靶材表面热量不能快速导出,溅射过程不能顺利进行。

我们已经溅射下来了,但是靶材的致密度在78左右。我们用的致密度95的氧化铝靶材,一直溅射不下来,这是什么原因?
头疼
6楼2021-01-05 13:32:36
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lvhong

至尊木虫 (著名写手)

木虫


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
一般是绑定结合不好导致靶材表面热量不能快速导出,溅射过程不能顺利进行。

发自小木虫Android客户端
metal,Iknowit?
2楼2020-09-23 07:29:08
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王龙权

木虫 (著名写手)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
如果有射频电源,建议溅射期间,打开射频电源;纯铝溅射,有时因氧化问题而产生靶中毒,都会导致靶材发红甚至开裂,关键有时候根本不起辉。做氧化铝陶瓷膜为啥不考虑做反应镀膜,纯铝靶材+氧气?

发自小木虫Android客户端
3楼2020-10-13 17:37:26
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东东那个东

金虫 (正式写手)

引用回帖:
3楼: Originally posted by 王龙权 at 2020-10-13 17:37:26
如果有射频电源,建议溅射期间,打开射频电源;纯铝溅射,有时因氧化问题而产生靶中毒,都会导致靶材发红甚至开裂,关键有时候根本不起辉。做氧化铝陶瓷膜为啥不考虑做反应镀膜,纯铝靶材+氧气?
...

反应镀膜方法是挺好的,但是做致密的薄膜工艺难度大,反而没有CVD做的好。
现在我们想用氧化铝靶材直接溅射,用射频在将氧化铝溅射下来,在实验过程中,发现靶材厚度、靶材密度都对溅射有影响,所谓我才问其中的原因。

我询问的3家靶材制造商,都是标记致密度大于等于80
头疼
4楼2021-01-05 13:27:20
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