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Andre_W银虫 (小有名气)
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[交流]
SU8光刻胶显影后表面密密麻麻的黑斑 已有4人参与
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MEMS，我们是做Pancake工艺，旋涂完SU8光阻液旋涂25um厚度后90度10min，然后110度30分，曝光能量给到140mj/cm2，曝后60度20min，PGMEA显影6分钟，显微镜下观察密密麻麻黑斑（确认为表面过刻蚀形成的坑），想问下老大们，怎么消除这些黑斑（坑）。 发自小木虫IOS客户端 |
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7楼2020-09-18 20:21:12
Andre_W2楼2020-05-25 17:00:40
Andre_W
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3楼2020-05-25 20:13:52
Andre_W
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1.显影以后发现的，表面是个坑状黑点；2.前烘我们没有气体，我们只有烤箱，非热板（现在是110度30分钟，是不是需要加长时间）3.显影我们使用的PGMEA和异丙醇；不太像是脏污，膜的表面没有只有结构层的空穴处有这个黑点 发自小木虫IOS客户端 |
4楼2020-05-25 21:40:16