| 查看: 3627 | 回复: 6 | ||||
Andre_W银虫 (小有名气)
|
[交流]
SU8光刻胶显影后表面密密麻麻的黑斑 已有4人参与
|
|
MEMS，我们是做Pancake工艺，旋涂完SU8光阻液旋涂25um厚度后90度10min，然后110度30分，曝光能量给到140mj/cm2，曝后60度20min，PGMEA显影6分钟，显微镜下观察密密麻麻黑斑（确认为表面过刻蚀形成的坑），想问下老大们，怎么消除这些黑斑（坑）。 发自小木虫IOS客户端 |
回复此楼» 猜你喜欢
求助WO3.cif文件 对应PDF卡片 43-1035，单斜晶系 , P21/n 。
已经有2人回复
-
稀土发光分析｜核壳结构｜寿命拟合
已经有13人回复
-
无机化学论文润色/翻译怎么收费?
已经有80人回复
-
稀土发光分析｜核壳结构｜寿命拟合
已经有6人回复
-
稀土发光分析｜核壳结构｜寿命拟合
已经有0人回复
-
稀土发光分析｜核壳结构｜寿命拟合
已经有0人回复
-
26 届青岛大学纺织化学与染整工程硕士（液体纳米分散染料方向）求申博建议
已经有4人回复
-
26 届青岛大学纺织化学与染整工程（液体纳米分散染料）求浙理工纺织 / 材料博导名额
已经有1人回复
-
敢问Acta Pharmaceutica Sinica B with Editor 三周了，能是什么情况？
已经有0人回复
-
求助 CeO2 Fe3O4 Cu2S CoFe2O4 标准卡 Jade 导出的数据
已经有0人回复
Andre_W2楼2020-05-25 17:00:40
Andre_W
银虫 (小有名气)
- 应助: 0 (幼儿园)
- 金币: 808.1
- 散金: 30
- 沙发: 1
- 帖子: 198
- 在线: 7.5小时
- 虫号: 21989520
- 注册: 2020-04-26
- 性别: GG
- 专业: 半导体电子器件
3楼2020-05-25 20:13:52
Andre_W
银虫 (小有名气)
- 应助: 0 (幼儿园)
- 金币: 808.1
- 散金: 30
- 沙发: 1
- 帖子: 198
- 在线: 7.5小时
- 虫号: 21989520
- 注册: 2020-04-26
- 性别: GG
- 专业: 半导体电子器件
|
1.显影以后发现的，表面是个坑状黑点；2.前烘我们没有气体，我们只有烤箱，非热板（现在是110度30分钟，是不是需要加长时间）3.显影我们使用的PGMEA和异丙醇；不太像是脏污，膜的表面没有只有结构层的空穴处有这个黑点 发自小木虫IOS客户端 |
4楼2020-05-25 21:40:16
yswyx 
专家顾问 (著名写手)
-
专家经验: +651 - MN-EPI: 8
- 应助: 807 (博后)
- 贵宾: 0.204
- 金币: 2618.9
- 散金: 6018
- 红花: 112
- 帖子: 2705
- 在线: 577.8小时
- 虫号: 446878
- 注册: 2007-10-30
- 性别: GG
- 专业: 半导体微纳机电器件与系统
- 管辖: 微米和纳米
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
|
从你的工艺条件看，你用的GM10xx系列的SU8，他们家的SU8烘烤时间太长了。 而且估计你没有做排泡，微泡会形成坑洞。另外，你用的烘箱，这个是很大的一个问题点，25um厚度的SU8，是强烈不建议用烘箱做的。 我觉得你首先光刻胶买错了，其次工艺和工具都有问题。你私信我吧，或者直接找研材微纳的技术部门来咨询。也可以申请SU8工艺培训。 另外，你最好贴一下照片，因为你所谓的膜的表面没有，而是结构层的空穴处有，这个实在不好理解。我猜测你是想说，SU8的表面没有任何问题，而是被显影的地方有各种黑斑。那一般我们认为是显影不洁，会有很多的麻点存在。显影时间不够，过度烘烤，衬底的问题，都有可能。还是具体咨询吧，贴子里面说不完的。 |
5楼2020-05-29 12:42:33
6楼2020-09-13 10:02:30
7楼2020-09-18 20:21:12
5