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Andre_W

银虫 (小有名气)

[交流] SU8光刻胶显影后表面密密麻麻的黑斑 已有4人参与

MEMS,我们是做Pancake工艺,旋涂完SU8光阻液旋涂25um厚度后90度10min,然后110度30分,曝光能量给到140mj/cm2,曝后60度20min,PGMEA显影6分钟,显微镜下观察密密麻麻黑斑(确认为表面过刻蚀形成的坑),想问下老大们,怎么消除这些黑斑(坑)。

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18681127092

新虫 (初入文坛)

★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
我做剥离液和显影液的

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6楼2020-09-13 10:02:30
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hitsz_li

铁虫 (初入文坛)

★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
supernatural: 金币-2, 帖子里不允许留下联系方式,已编辑掉 2020-05-27 12:53:37
可以排除法去分析:首先看一下是那个步骤中产生的黑点?涂胶?烘烤后?显影后?
其次,分析一下有可能是污染还是气泡?
25um厚胶有几点需要注意:①判断有没有稀释过?取胶有没有引入气体?有没有可能引入污染?②胶很厚,前烘不要用烘箱,一定要用热板,一定要烘透,否则残存的溶剂会形成气泡;③光刻胶有没有过期?过期的胶曝光后会有含n气体逸出

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2楼2020-05-25 17:00:40
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Andre_W

银虫 (小有名气)

送红花一朵
引用回帖:
2楼: Originally posted by hitsz_li at 2020-05-25 17:00:40
可以排除法去分析:首先看一下是那个步骤中产生的黑点?涂胶?烘烤后?显影后?
其次,分析一下有可能是污染还是气泡?
25um厚胶有几点需要注意:①判断有没有稀释过?取胶有没有引入气体?有没有可能引入污染?② ...

谢谢

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3楼2020-05-25 20:13:52
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Andre_W

银虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by hitsz_li at 2020-05-25 17:00:40
可以排除法去分析:首先看一下是那个步骤中产生的黑点?涂胶?烘烤后?显影后?
其次,分析一下有可能是污染还是气泡?
25um厚胶有几点需要注意:①判断有没有稀释过?取胶有没有引入气体?有没有可能引入污染?② ...

1.显影以后发现的,表面是个坑状黑点;2.前烘我们没有气体,我们只有烤箱,非热板(现在是110度30分钟,是不是需要加长时间)3.显影我们使用的PGMEA和异丙醇;不太像是脏污,膜的表面没有只有结构层的空穴处有这个黑点

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4楼2020-05-25 21:40:16
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