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Andre_W银虫 (小有名气)
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SU8光刻胶显影后表面密密麻麻的黑斑 已有4人参与
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MEMS，我们是做Pancake工艺，旋涂完SU8光阻液旋涂25um厚度后90度10min，然后110度30分，曝光能量给到140mj/cm2，曝后60度20min，PGMEA显影6分钟，显微镜下观察密密麻麻黑斑（确认为表面过刻蚀形成的坑），想问下老大们，怎么消除这些黑斑（坑）。 发自小木虫IOS客户端 |
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Andre_W2楼2020-05-25 17:00:40
Andre_W
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3楼2020-05-25 20:13:52
Andre_W
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1.显影以后发现的，表面是个坑状黑点；2.前烘我们没有气体，我们只有烤箱，非热板（现在是110度30分钟，是不是需要加长时间）3.显影我们使用的PGMEA和异丙醇；不太像是脏污，膜的表面没有只有结构层的空穴处有这个黑点 发自小木虫IOS客户端 |
4楼2020-05-25 21:40:16
yswyx 
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从你的工艺条件看，你用的GM10xx系列的SU8，他们家的SU8烘烤时间太长了。 而且估计你没有做排泡，微泡会形成坑洞。另外，你用的烘箱，这个是很大的一个问题点，25um厚度的SU8，是强烈不建议用烘箱做的。 我觉得你首先光刻胶买错了，其次工艺和工具都有问题。你私信我吧，或者直接找研材微纳的技术部门来咨询。也可以申请SU8工艺培训。 另外，你最好贴一下照片，因为你所谓的膜的表面没有，而是结构层的空穴处有，这个实在不好理解。我猜测你是想说，SU8的表面没有任何问题，而是被显影的地方有各种黑斑。那一般我们认为是显影不洁，会有很多的麻点存在。显影时间不够，过度烘烤，衬底的问题，都有可能。还是具体咨询吧，贴子里面说不完的。 |
5楼2020-05-29 12:42:33
6楼2020-09-13 10:02:30
7楼2020-09-18 20:21:12
