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huihuihuang新虫 (正式写手)
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关于利用椭偏仪测试双层薄膜的光学常数问题 已有1人参与
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请教一个问题: A:N型硅片上沉积有富硼层,B:N型硅片上沉积有富硼层和硼硅酸玻璃层(硼硅酸玻璃层在上) (a)采用椭偏分析仪测试样品A,得到样品A的Ψ (A) -λ曲线、采用椭偏分析仪测试样品B,得到样品B的Ψ (B) -λ曲线; (b)基于第一性原理密度泛函方法,求解得到样品A富硼层的厚度、折射率和消光系数; (c)将样品A富硼层的厚度、折射率和消光系数带入样品B的Ψ (B) -λ曲线,通过拟合分析得到样品B硼硅玻璃层的厚度、折射率和消光系数。 请问从步骤(C)中得到B中硼硅酸玻璃层的光学常数的原理是什么?是很常规的利用椭偏仪测试薄膜厚度与光学常数的方法吗? |
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hustoe2011
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huihuihuang: 金币+50, ★有帮助 2020-05-20 23:32:18
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你确定第二步(b)是基于第一性原理密度泛函方法么? 求解样品A富硼层的厚度、折射率和消光系数,是 光束在 Air-富硼层-N型硅基片 三层结构中的反射,tanψ与s、p偏振光振幅的变化有关。 样品B:N型硅片上沉积有富硼层和硼硅酸玻璃层(硼硅酸玻璃层在上) 按光束在 Air-硼硅酸玻璃层-富硼层-N型硅基片 四层结构中的反射处理。 (c)这一步成立的前提是:样品A和样品B具有相同的富硼层厚度,否则拟合没什么意义。 |

2楼2020-05-18 08:35:55
huihuihuang
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4楼2020-05-18 09:32:30
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