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huihuihuang新虫 (正式写手)
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关于利用椭偏仪测试双层薄膜的光学常数问题 已有1人参与
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请教一个问题： A：N型硅片上沉积有富硼层，B：N型硅片上沉积有富硼层和硼硅酸玻璃层（硼硅酸玻璃层在上） (a)采用椭偏分析仪测试样品A，得到样品A的Ψ (A) -λ曲线、采用椭偏分析仪测试样品B，得到样品B的Ψ (B) -λ曲线； (b)基于第一性原理密度泛函方法，求解得到样品A富硼层的厚度、折射率和消光系数； (c)将样品A富硼层的厚度、折射率和消光系数带入样品B的Ψ (B) -λ曲线，通过拟合分析得到样品B硼硅玻璃层的厚度、折射率和消光系数。 请问从步骤(C)中得到B中硼硅酸玻璃层的光学常数的原理是什么？是很常规的利用椭偏仪测试薄膜厚度与光学常数的方法吗？ |
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你确定第二步（b）是基于第一性原理密度泛函方法么？ 求解样品A富硼层的厚度、折射率和消光系数，是 光束在 Air-富硼层-N型硅基片 三层结构中的反射，tanψ与s、p偏振光振幅的变化有关。 样品B：N型硅片上沉积有富硼层和硼硅酸玻璃层（硼硅酸玻璃层在上） 按光束在 Air-硼硅酸玻璃层-富硼层-N型硅基片 四层结构中的反射处理。 （c）这一步成立的前提是：样品A和样品B具有相同的富硼层厚度，否则拟合没什么意义。 |
2楼2020-05-18 08:35:55
huihuihuang
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4楼2020-05-18 09:32:30
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5楼2020-05-18 17:49:03
