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huihuihuang

新虫 (正式写手)

[求助] 关于利用椭偏仪测试双层薄膜的光学常数问题 已有1人参与

请教一个问题:

A:N型硅片上沉积有富硼层,B:N型硅片上沉积有富硼层和硼硅酸玻璃层(硼硅酸玻璃层在上)

(a)采用椭偏分析仪测试样品A,得到样品A的Ψ (A) -λ曲线、采用椭偏分析仪测试样品B,得到样品B的Ψ (B) -λ曲线;

(b)基于第一性原理密度泛函方法,求解得到样品A富硼层的厚度、折射率和消光系数;

(c)将样品A富硼层的厚度、折射率和消光系数带入样品B的Ψ (B) -λ曲线,通过拟合分析得到样品B硼硅玻璃层的厚度、折射率和消光系数。

请问从步骤(C)中得到B中硼硅酸玻璃层的光学常数的原理是什么?是很常规的利用椭偏仪测试薄膜厚度与光学常数的方法吗?
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hustoe2011

至尊木虫 (文坛精英)

【答案】应助回帖

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感谢参与,应助指数 +1
huihuihuang: 金币+50, 有帮助 2020-05-20 23:32:18
你确定第二步(b)是基于第一性原理密度泛函方法么?
求解样品A富硼层的厚度、折射率和消光系数,是 光束在 Air-富硼层-N型硅基片 三层结构中的反射,tanψ与s、p偏振光振幅的变化有关。

样品B:N型硅片上沉积有富硼层和硼硅酸玻璃层(硼硅酸玻璃层在上)
按光束在 Air-硼硅酸玻璃层-富硼层-N型硅基片 四层结构中的反射处理。

(c)这一步成立的前提是:样品A和样品B具有相同的富硼层厚度,否则拟合没什么意义。
随心所欲不逾矩
2楼2020-05-18 08:35:55
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huihuihuang

新虫 (正式写手)

引用回帖:
2楼: Originally posted by hustoe2011 at 2020-05-18 08:35:55
你确定第二步(b)是基于第一性原理密度泛函方法么?
求解样品A富硼层的厚度、折射率和消光系数,是 光束在 Air-富硼层-N型硅基片 三层结构中的反射,tanψ与s、p偏振光振幅的变化有关。

样品B:N型硅片上沉积有 ...

A、B中富硼层厚度一样

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3楼2020-05-18 09:12:25
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hustoe2011

至尊木虫 (文坛精英)

引用回帖:
3楼: Originally posted by huihuihuang at 2020-05-18 09:12:25
A、B中富硼层厚度一样
...

一般单原子层或较少原子层厚度的薄膜,才涉及到用第一性原理密度泛函的方法。
若薄膜较厚,第一性原理的计算量太大,不现实。
用光学的方法,
相当于是以样品A作为参照物来确定样品B中硼硅酸玻璃层的厚度、折射率和消光系数的。
即由3层结构中偏振光的反射,到四层结构中偏振光的反射,这个差异的比对来确定的。
随心所欲不逾矩
4楼2020-05-18 09:32:30
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huihuihuang

新虫 (正式写手)

引用回帖:
4楼: Originally posted by hustoe2011 at 2020-05-18 09:32:30
一般单原子层或较少原子层厚度的薄膜,才涉及到用第一性原理密度泛函的方法。
若薄膜较厚,第一性原理的计算量太大,不现实。
用光学的方法,
相当于是以样品A作为参照物来确定样品B中硼硅酸玻璃层的厚度、折射 ...

是不是可以理解A片为B片除硼硅玻璃层外的新衬底呢?

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5楼2020-05-18 17:49:03
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