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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 光刻的临近效应
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原位代加工

新虫 (小有名气)

[交流] 光刻的临近效应

如何解决光刻临近效应，改变曝光剂量，曝光时间，已经改变胶型号，都可以减小效应，改变图形形状曝光是最好的方法，对于改变图形形状有什么规律么？
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1楼 2019-07-25 17:04:16
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原位代加工

新虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by bobo201266 at 2019-07-25 19:17:04
只有尺寸很小才会有临近效应的影响啊，加OPC结构改善。MEMS的话，应该还是别的因素影响。

谢谢~~
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5楼2019-07-26 14:13:37
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bobo201266

金虫 (正式写手)
★
原位代加工(金币+1): 谢谢参与
只有尺寸很小才会有临近效应的影响啊，加OPC结构改善。MEMS的话，应该还是别的因素影响。

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2楼2019-07-25 19:17:04
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原位代加工

新虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by bobo201266 at 2019-07-25 19:17:04
只有尺寸很小才会有临近效应的影响啊，加OPC结构改善。MEMS的话，应该还是别的因素影响。

谢谢~
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9楼2019-07-29 16:24:48
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