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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 工艺技术 » 膜技术 » 磁控溅射样品的内应力消除问题
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枫叶初红

捐助贵宾 (初入文坛)

[交流] 磁控溅射样品的内应力消除问题

请问：利用磁控溅射得到的样品中会产生内应力，有什么方法可以有效的消除掉？
希望得到详细的解决方法及方案。对象：CoFeB
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磁控溅射镀膜工艺

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1楼 2019-03-22 10:40:41
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野人禾禾

金虫 (正式写手)
★
枫叶初红(金币+2): 谢谢参与
首先得确定工艺内应力的来源。
是工艺过程中引入的，还是本身材料结构在重组成过程中形成的。
工艺引入的可以通过改进阴极设计，调整温升温降曲线，增加离子源等方式降低；如果是材料结构本身，可能需要引入新元素来降低应力。
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6楼2019-03-25 09:43:59
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林交流

无虫 (小有名气)
★
枫叶初红(金币+2): 谢谢参与
首先得确定工艺内应力的来源。
是工艺过程中引入的，还是本身材料结构在重组成过程中形成的。
工艺引入的可以通过改进阴极设计，调整温升温降曲线，增加离子源等方式降低；如果是材料结构本身，可能需要引入新元素来降低应力。
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7楼2019-03-25 13:29:20
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子曾经日过

铜虫 (小有名气)
是ITO镀膜吗？
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10楼2019-04-07 11:56:15
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Dr_WuGH

金虫 (正式写手)
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11楼2019-05-24 11:05:14
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nono20092楼
2019-03-24 09:44   回复  
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dongmings3楼
2019-03-24 10:06   回复  
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Biotage4楼
2019-03-25 08:04   回复  
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sz_kebaoyuan5楼
2019-03-25 08:11   回复  
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tzynew8楼
2019-03-28 11:58   回复  
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keithley软件9楼
2019-04-07 11:13   回复  
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