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汕头大学海洋科学接受调剂
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czcdxmc

木虫 (正式写手)

MEMS小学生

[求助] 氮化硅SiN膜上光刻后溅射钛Ti或金Au后出现光刻胶PR鼓泡的情况 已有2人参与

SiN膜上光刻后做溅射工艺,溅射Ti或Au后出现光刻胶PR鼓泡的情况,虫友门有遇到这种问题的吗?
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学海无涯,回头是岸。
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gyxzby

铜虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

光刻胶出现玻璃态褶皱了么?如果溅射完成后光刻胶没有褶皱边缘形貌无异常的话,你可以排除温度过高问题。如果SiN有没有对你差别比较大的话,你要考虑等离子体会产生大量紫外线,将对作为掩模的光刻胶产生二次曝光作用,曝光过程产生的氮气密封于光刻胶中从而在光刻胶内外形成压强差。一般光刻胶的水分和曝光不完全会有这种情况出现吧。给你篇文献,你查查看看对比一下:感应耦合等离子体干法刻蚀中光刻胶掩模的异常性
5楼2019-01-23 17:33:32
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MEMSlee

捐助贵宾 (著名写手)


溅射温度高所以起泡,正常不影响剥离

发自小木虫Android客户端
2楼2019-01-17 09:35:32
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野人禾禾

金虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
溅射温度高,可以降低沉积温度;轰击能量高,试着降低沉积功率;
擅长薄膜材料工艺,欢迎交流captain0119
3楼2019-01-17 10:29:12
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czcdxmc

木虫 (正式写手)

MEMS小学生

引用回帖:
2楼: Originally posted by MEMSlee at 2019-01-17 09:35:32
溅射温度高所以起泡,正常不影响剥离

但是如果没有SiN的话,就不存在这样的问题,是因为SiN热导率差的问题吗。
如果起泡破掉的话会影响图形的。
学海无涯,回头是岸。
4楼2019-01-18 13:50:35
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