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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料综合 » 材料其他 » 如何提高紫铜的电弧沉积速率
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lu06024150

木虫 (小有名气)

[求助] 如何提高紫铜的电弧沉积速率 已有1人参与

各位大神，之前采用直流或中频磁控溅射紫铜，为提高沉积速率，现采用电弧沉积，辉光较弱，沉积速率较慢（查资料说由于紫铜密度较大需要强磁场），除了加强磁场外还有什么能提高沉积速度的方法，谢谢！
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1楼 2018-05-24 15:00:46
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李小华

铁杆木虫 (知名作家)
引用回帖:
4楼: Originally posted by 野人禾禾 at 2018-05-25 13:56:33
功率提高效果没有，说明你的阴极问题很大。其他措施我也想不到了，气压0.35pa可以。...

压力不够吧，

发自小木虫IOS客户端
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6楼2018-07-02 22:34:53
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野人禾禾

金虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
额，紫铜不就是单质铜么，不存在所谓的密度大沉积速率慢的问题。
关键你所需要的沉积速率是多少？铜的沉积速率是很快的。
辉光弱，说明磁场弱。如果不改磁场，你可以提高功率，降低气压，缩短靶基距。
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擅长薄膜材料工艺，欢迎交流captain0119
2楼2018-05-25 09:50:57
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lu06024150

木虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by 野人禾禾 at 2018-05-25 09:50:57
额，紫铜不就是单质铜么，不存在所谓的密度大沉积速率慢的问题。
关键你所需要的沉积速率是多少？铜的沉积速率是很快的。
辉光弱，说明磁场弱。如果不改磁场，你可以提高功率，降低气压，缩短靶基距。

功率提高了效果基本没有，靶基距牵扯到设备硬件了改不了，降低气压是什么意思，目前工艺压力0.35Pa左右，需要降到很低吗？谢谢
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3楼2018-05-25 11:28:06
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野人禾禾

金虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

引用回帖:
3楼: Originally posted by lu06024150 at 2018-05-25 04:28:06
功率提高了效果基本没有，靶基距牵扯到设备硬件了改不了，降低气压是什么意思，目前工艺压力0.35Pa左右，需要降到很低吗？谢谢...

功率提高效果没有，说明你的阴极问题很大。其他措施我也想不到了，气压0.35pa可以。
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擅长薄膜材料工艺，欢迎交流captain0119
4楼2018-05-25 13:56:33
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