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lu06024150

木虫 (小有名气)

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[求助] 如何提高紫铜的电弧沉积速率已有1人参与

各位大神，之前采用直流或中频磁控溅射紫铜，为提高沉积速率，现采用电弧沉积，辉光较弱，沉积速率较慢（查资料说由于紫铜密度较大需要强磁场），除了加强磁场外还有什么能提高沉积速度的方法，谢谢！

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磁控溅射镀膜工艺

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1楼 2018-05-24 15:00:46

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野人禾禾

金虫 (正式写手)

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【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1

额，紫铜不就是单质铜么，不存在所谓的密度大沉积速率慢的问题。
关键你所需要的沉积速率是多少？铜的沉积速率是很快的。
辉光弱，说明磁场弱。如果不改磁场，你可以提高功率，降低气压，缩短靶基距。

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擅长薄膜材料工艺，欢迎交流captain0119

2楼2018-05-25 09:50:57

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lu06024150

木虫 (小有名气)

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引用回帖:

2楼: Originally posted by 野人禾禾 at 2018-05-25 09:50:57
额，紫铜不就是单质铜么，不存在所谓的密度大沉积速率慢的问题。
关键你所需要的沉积速率是多少？铜的沉积速率是很快的。
辉光弱，说明磁场弱。如果不改磁场，你可以提高功率，降低气压，缩短靶基距。

功率提高了效果基本没有，靶基距牵扯到设备硬件了改不了，降低气压是什么意思，目前工艺压力0.35Pa左右，需要降到很低吗？谢谢

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3楼2018-05-25 11:28:06

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