24小时热门版块排行榜    

查看: 864  |  回复: 5

lu06024150

木虫 (小有名气)

[求助] 如何提高紫铜的电弧沉积速率已有1人参与

各位大神,之前采用直流或中频磁控溅射紫铜,为提高沉积速率,现采用电弧沉积,辉光较弱,沉积速率较慢(查资料说由于紫铜密度较大需要强磁场),除了加强磁场外还有什么能提高沉积速度的方法,谢谢!
回复此楼
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

野人禾禾

金虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
额,紫铜不就是单质铜么,不存在所谓的密度大沉积速率慢的问题。
关键你所需要的沉积速率是多少?铜的沉积速率是很快的。
辉光弱,说明磁场弱。如果不改磁场,你可以提高功率,降低气压,缩短靶基距。
擅长薄膜材料工艺,欢迎交流captain0119
2楼2018-05-25 09:50:57
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

lu06024150

木虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by 野人禾禾 at 2018-05-25 09:50:57
额,紫铜不就是单质铜么,不存在所谓的密度大沉积速率慢的问题。
关键你所需要的沉积速率是多少?铜的沉积速率是很快的。
辉光弱,说明磁场弱。如果不改磁场,你可以提高功率,降低气压,缩短靶基距。

功率提高了效果基本没有,靶基距牵扯到设备硬件了改不了,降低气压是什么意思,目前工艺压力0.35Pa左右,需要降到很低吗?谢谢
3楼2018-05-25 11:28:06
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

野人禾禾

金虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

引用回帖:
3楼: Originally posted by lu06024150 at 2018-05-25 04:28:06
功率提高了效果基本没有,靶基距牵扯到设备硬件了改不了,降低气压是什么意思,目前工艺压力0.35Pa左右,需要降到很低吗?谢谢...

功率提高效果没有,说明你的阴极问题很大。其他措施我也想不到了,气压0.35pa可以。
擅长薄膜材料工艺,欢迎交流captain0119
4楼2018-05-25 13:56:33
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

lu06024150

木虫 (小有名气)

引用回帖:
4楼: Originally posted by 野人禾禾 at 2018-05-25 13:56:33
功率提高效果没有,说明你的阴极问题很大。其他措施我也想不到了,气压0.35pa可以。...

好的,谢谢了
5楼2018-05-25 14:35:37
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

李小华

铁杆木虫 (知名作家)

引用回帖:
4楼: Originally posted by 野人禾禾 at 2018-05-25 13:56:33
功率提高效果没有,说明你的阴极问题很大。其他措施我也想不到了,气压0.35pa可以。...

压力不够吧,

发自小木虫IOS客户端
6楼2018-07-02 22:34:53
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖
相关版块跳转 我要订阅楼主 lu06024150 的主题更新
信息提示
请填处理意见