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糊涂蛋2018

新虫 (初入文坛)

[求助] 反应磁控溅射镀氧化钒薄膜启辉后瞬间熄辉 已有1人参与

设备型号为sd550成都的，气压正常，射频电源电压正常，电流极小，射频匹配器自偏压无示数，改用直流启辉正常，请问是哪里出了问题，该如何维修。
求大佬啊

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磁控溅射镀膜工艺

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1楼 2018-05-07 18:31:36
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匿名

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2楼2018-05-08 08:52:55
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m452193160

新虫 (小有名气)
射频最好别用国产的

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3楼2018-05-08 10:08:28
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糊涂蛋2018

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by gt134032 at 2018-05-08 08:52:55
请问单靶还是多靶的仪器？有没有尝试调高气压？

做的事单靶，气压试过调高，能启辉，但是辉光非常弱，自偏压任然极小

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4楼2018-05-08 16:54:37
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糊涂蛋2018

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
3楼: Originally posted by m452193160 at 2018-05-08 10:08:28
射频最好别用国产的

接受

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5楼2018-05-08 16:55:24
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匿名

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6楼2018-05-08 17:45:06
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糊涂蛋2018

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
6楼: Originally posted by gt134032 at 2018-05-08 17:45:06
我曾经遇到过类似的情况，溅射金属钼，开始用0.2pa,辉光很弱，电流小电压大，后将气压调至1.0pa,辉光正常。此外我们的仪器有四个靶位，我发现使用不同靶位用相同气压时，不同位置可能也会有不同。不知道对你有没有 ...

我所使用的设备磁性也有差异，我能启辉是在非常高的氩气流量下，接近400sccm且辉光很暗,降低气压后辉光俞暗。

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7楼2018-05-08 21:12:21
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天行健08

铜虫 (小有名气)
引用回帖:
7楼: Originally posted by 糊涂蛋2018 at 2018-05-08 21:12:21
我所使用的设备磁性也有差异，我能启辉是在非常高的氩气流量下，接近400sccm且辉光很暗,降低气压后辉光俞暗。
...

会不会是靶材或阳极罩之类的杂质太多短路了？
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MEMS
8楼2018-05-11 16:48:43
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糊涂蛋2018

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
8楼: Originally posted by 天行健08 at 2018-05-11 16:48:43
会不会是靶材或阳极罩之类的杂质太多短路了？...

不会  我每次溅射都取下来打磨了的，我换了个新的靶材，然后把腔体也打磨了，也不知道为啥就能启辉了，自偏压也正常了……

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9楼2018-05-12 00:01:32
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野人禾禾

金虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
糊涂蛋2018: 金币+5, ★★★很有帮助 2018-05-14 23:42:17
国产射频基本不可用，找匹配点不准而且反射功率很高很危险，可以的话试试AE cesar。
射频调节很关键的是找到合适的匹配点，这个匹配点一个有赖于腔体设计，一个有赖于工艺参数。
一个启辉困难可能你腔体设计的阻抗已经超过了匹配箱的可调节范围，另一个需要合理的工艺参数，气压高一点比如1pa...
但最关键的还是射频设备的好坏。
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擅长薄膜材料工艺，欢迎交流captain0119
10楼2018-05-14 09:51:26
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