[求助] 磁控溅射法制备ZnO薄膜的过程中通入氢气有哪些需要注意的？ 已有1人参与

如题：利用磁控溅射法制备ZnO薄膜，靶材是ZnO靶，基底温度在300~500度，通入两路气体：一路高纯氩，一路氢氩混合气（氢气10%）。 类似的薄膜制备实验有虫友做过吗，主要是在磁控溅射镀膜中引入氢气？ 整个镀膜过程有哪些需要注意的？ 怎样提高安全性？ 金币很多，请踊跃解答，谢谢！！！

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薄膜制备与特性

磁控溅射镀膜工艺

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