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liqianliwi木虫 (职业作家)
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磁控溅射法制备ZnO薄膜的过程中通入氢气有哪些需要注意的?已有1人参与
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如题:利用磁控溅射法制备ZnO薄膜,靶材是ZnO靶,基底温度在300~500度,通入两路气体:一路高纯氩,一路氢氩混合气(氢气10%)。 类似的薄膜制备实验有虫友做过吗,主要是在磁控溅射镀膜中引入氢气? 整个镀膜过程有哪些需要注意的? 怎样提高安全性? 金币很多,请踊跃解答,谢谢!!! ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() |
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薄膜制备与特性 | 磁控溅射镀膜工艺 |
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9楼2018-03-19 11:38:17
2楼2018-03-18 08:50:00
liqianliwi
木虫 (职业作家)
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3楼2018-03-18 08:54:35
stage辉辉
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4楼2018-03-18 10:17:47














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