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hongbo1985

银虫 (小有名气)

[交流] 【求助】磁控溅射ZnO薄膜厚度问题

最近用磁控溅射做ZnO薄膜,工作压强在0.7pa,功率150w,两个小时厚度只有100nm左右,溅射速率为什么这么慢?
溅射过程中,工作压强起伏较大,不能长时间稳定在某一确定值,为什么?气流不均匀?
清高手解答一下,不胜感激!!
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ifand

银虫 (小有名气)

那文献中的沉积沉积速率有多少?
不同的材料沉积速率不同。
2楼2009-02-14 21:06:38
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whzg

木虫 (知名作家)

我估计你用的是ZnO靶材。如果用Zn靶材反应溅射,沉积条件合适,则沉积速率要大,我做过30分钟膜厚超过100nm。
3楼2009-02-14 22:06:01
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chenfire

木虫 (著名写手)

150W对于ZnO陶瓷钯来说,功率不算大,溅射速度慢点是正常的。
至于气压变化大,大到什么程度?稍微的变化肯定会有的。

我们调节工作气压主要靠调节气流大小、插板阀的闭合程度,
调节完之后,气压要几分钟后才能稳定,刚开始用要有点耐心,边调边等,熟手了就知道大概什么位置对应什么气压了。。。
非淡泊无以明志,非宁静无以致远
4楼2009-02-15 01:01:25
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jiahl

金虫 (小有名气)

这个与设备有直接关系,我们实验室有两台溅射设备,一台溅射速率小于100nm/小时;但是另外一台设备,溅射速率居然有5um/小时。
一般来说,对于同样条件,溅射速度与溅射功率、气体流量有关,但是我感觉与功率的关系最大,至于靶材是Zn靶还是ZnO靶,关系不是很大

[ Last edited by jiahl on 2009-2-15 at 09:14 ]
业精于勤 荒于嬉 行成于思 毁于随
5楼2009-02-15 09:13:15
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hongbo1985

银虫 (小有名气)

工作压强变化在0.7pa正负0.05pa
6楼2009-02-15 09:49:58
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huagnc

木虫 (正式写手)


小木虫(金币+0.5):给个红包,谢谢回帖交流
想问下楼主,你在什么基底上溅射的,谢谢哦!
保持积极的心态!
7楼2009-09-09 15:54:18
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luochunlian123

金虫 (正式写手)

妙管家

功率太小了吧
8楼2009-09-10 14:20:22
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chnoy

银虫 (小有名气)

是不是靶间距的问题?
9楼2009-09-10 15:57:09
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