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hongbo1985

银虫 (小有名气)

[交流] 【求助】磁控溅射ZnO薄膜厚度问题

最近用磁控溅射做ZnO薄膜,工作压强在0.7pa,功率150w,两个小时厚度只有100nm左右,溅射速率为什么这么慢?
溅射过程中,工作压强起伏较大,不能长时间稳定在某一确定值,为什么?气流不均匀?
清高手解答一下,不胜感激!!
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chnoy

银虫 (小有名气)

是不是靶间距的问题?
9楼2009-09-10 15:57:09
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ifand

银虫 (小有名气)

那文献中的沉积沉积速率有多少?
不同的材料沉积速率不同。
2楼2009-02-14 21:06:38
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whzg

木虫 (知名作家)

我估计你用的是ZnO靶材。如果用Zn靶材反应溅射,沉积条件合适,则沉积速率要大,我做过30分钟膜厚超过100nm。
3楼2009-02-14 22:06:01
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chenfire

木虫 (著名写手)

150W对于ZnO陶瓷钯来说,功率不算大,溅射速度慢点是正常的。
至于气压变化大,大到什么程度?稍微的变化肯定会有的。

我们调节工作气压主要靠调节气流大小、插板阀的闭合程度,
调节完之后,气压要几分钟后才能稳定,刚开始用要有点耐心,边调边等,熟手了就知道大概什么位置对应什么气压了。。。
非淡泊无以明志,非宁静无以致远
4楼2009-02-15 01:01:25
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