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求光刻胶的大神 已有9人参与
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我是买的SU-8光刻胶干膜，然后把它贴在铜基底上，做一个30μm、深宽比为3.3:1左右的凹槽，一个基底上开了12个凹槽，等间距的。 固化工艺是： 前烘92°，2min； 曝光40s(100μm厚)； 后烘：65°，5min；95°，10min； 但是一直显影失败，显影的的时候那些槽壁会慢慢变弯曲成波浪形，最终全显影掉。试过不同的显影时间都是这个情况。现在不知道什么原因了，求大神帮忙分析分析。 本人和导师都是第一次接触这个完全不懂，出现问题也不知道找谁交流，只能上这来求助了 |
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楼主您好，不知道您是否解决这个问题了没有，我也遇见类似的问题，我观察到未显影部分经显影后会形成凝胶体，但是凝胶体却不易再溶解，若显影时间过长则曝光部分也会溶胀 发自小木虫Android客户端 |
18楼2019-08-27 22:58:24
2楼2017-06-02 09:03:51
weilingdun
木虫 (著名写手)
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- 专业: 功能与智能高分子
3楼2017-06-02 19:28:19
4楼2017-06-19 16:55:40